àtọwọdá bọ́ọ̀lù afọwọ́ṣe ss wafer irú

Ní ìfiwéra pẹ̀lú àwọn fáìlì bọ́ọ̀lù lásán, àwọn fáìlì bọ́ọ̀lù tín-tín-tín-tín ní àwọn àǹfààní bí gígùn ìṣètò kúkúrú, ìwọ̀n díẹ̀, fífi sori ẹrọ tí ó rọrùn, fífi ohun èlò pamọ́ àti bẹ́ẹ̀ bẹ́ẹ̀ lọ. Ní àfikún, ìjókòó fáìlì náà gba ìṣètò ìdènà rirọ, èyí tí ó ní ìdènà tí ó ṣeé gbẹ́kẹ̀lé àti ṣíṣí àti pípa tí ó rọrùn. Ó ní ìṣètò tí kò lè jóná, èyí tí ó ṣì lè ṣiṣẹ́ dáadáa tí ó sì ní ìdènà tí ó dára nígbà tí iná bá jó. Gẹ́gẹ́ bí àìní àwọn olùlò, a lè ṣètò ìṣètò tí kò lè jóná. A pèsè swítì náà pẹ̀lú ohun èlò ìdúró pẹ̀lú ihò kan, èyí tí a lè tì bí ó bá ṣe pọndandan láti dènà àìṣiṣẹ́.

Fáìlì bọ́ọ̀lù tín-tín wafer náà wúlò fún class150 àti PN1 0 ~ 2.5MPa, iwọ̀n otútù iṣẹ́ 29 ~ 180 ℃ (òrùka ìdìmú náà jẹ́ polytetrafluoroethylene tí a fi kún un) tàbí 29 ~ 300 ℃ (òrùka ìdìmú náà jẹ́ polystyrene tí a tò) ni a lò láti gé tàbí so àárín nínú òpópónà náà pọ̀. A yan àwọn ohun èlò ọ̀tọ̀ọ̀tọ̀, èyí tí a lè lò sí omi, steam, epo, nitric acid, acetic acid, oxidizing medium, urea àti àwọn media mìíràn lẹ́sẹẹsẹ.